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在半导体工艺中,如果淀积的薄膜不是连续的,存在一些空隙,则(

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    介电常数(dielectric constant)、半导体(semiconductor)、加速器(accelerator)、扩散工艺(diffusion process)、玻璃管(glass tube)

  • [多选题]在半导体工艺中,如果淀积的薄膜不是连续的,存在一些空隙,则()。

  • A. 使薄膜的介电常数变大
    B. 可能引入杂质
    C. 可能使薄膜层间短路
    D. 使薄膜介电常数变小
    E. 可能使薄膜厚度增加

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  • 学习资料:
  • [多选题]扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散,改变了晶片(),所以晶片才能被人们所使用。
  • A. 内部的杂质分布
    B. 表面的杂质分布
    C. 整个晶体的杂质分布
    D. 内部的导电类型
    E. 表面的导电类型

  • [多选题]直流二极管辉光放电系统是由()构成。
  • A. 抽真空的玻璃管(glass tube)
    B. 抽真空后再充入某种低压气体的玻璃管(glass tube)
    C. 两个电极
    D. 加速器
    E. 增益管

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