2022集成电路制造工艺员（三级）题库模拟冲刺试卷185

1. [单选题]局域网中使用中继器的作用是（）。

A. 可以实现两个以上同类网络的联接
B. 可以实现异种网络的互连
C. 实现信号的收集、缓冲及格式的变换
D. 实现传递信号的放大和整形

2. [单选题]干氧氧化^{(dry oxidation)}中，氧化炉内的气体压力应（）一个大气压。

A. 稍高于
B. 大大于
C. 等于
D. 没有要求

3. [多选题]解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。

A. 加强工艺操作
B. 加强人体和环境卫生
C. 使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备
D. 采用HCl氧化工艺
E. 硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹

4. [单选题]在确定扩散率的实验中，扩散层电阻的测量可以用（）测量。

A. SIMS技术
B. 扩展电阻技术^{(spreading resistance technique)}
C. 微分电导率技术
D. 四探针技术

5. [单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中，硼在900～1050℃的条件下，扩散时间大约（）为宜。

A. 4～6h
B. 50min～2h
C. 10～40min
D. 5～10min

6. [多选题]半导体芯片生产中，离子注入主要是用来（）。

A. 氧化
B. 改变导电类型
C. 涂层
D. 改变材料性质
E. 镀膜

7. [单选题]电离气体与普通气体的不同之处在于：后者是由电中性的分子或原子组成的，前者则是（）和中性粒子组成的集合体^(aggregate)。

A. 离子
B. 原子团
C. 电子
D. 带电粒子

8. [单选题]在生产过程中必须使用（）来完成浅沟槽隔离STI。

A. 单晶硅刻蚀
B. 多晶硅刻蚀
C. 二氧化硅刻蚀
D. 氮化硅刻蚀

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