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用氧化铝或特制砂擦拭离子源表面污垢,然后加入丙酮超声复清洗,

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    氧化铝(alumina)、离子源(ion source)

  • [判断题]用氧化铝或特制砂擦拭离子源表面污垢,然后加入丙酮超声复清洗,是GC-MS中清洁离子常用方法。

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