半导体硅材料制备中产生的硅烷在常温下是一种气体，其分子式为（

【名词&注释】

分子式(molecular formula)、常温下(normal temperature)、半导体硅(semiconductor silicon)

[单选题]半导体硅材料制备中产生的硅烷在常温下是一种气体，其分子式为（）。

A. A.SiH2B.SiHC.SiH3D.SiH4

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[单选题]层压组件时一般需要的时间为（）。

A. 8分钟
B. 15分钟
C. 30分钟
D. 60分钟

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