二氧化硅薄膜的折射率是表征其（）学性质的重要参数。

【名词&注释】

光刻胶、单晶硅(single crystal silicon)、折射率(refractive index)、氟化氢(hydrogen fluoride)、多晶硅(polysilicon)、氮化硅(silicon nitride)、媒介物(vehicle)

[单选题]二氧化硅薄膜的折射率是表征其（）学性质的重要参数。

A. 电
B. 磁
C. 光
D. 热

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[单选题]单晶硅刻蚀一般采用（）做掩蔽层，以氟化氢为主要的刻蚀剂，氧气为侧壁钝化作用的媒介物^(vehicle)。

A. 氮化硅^{(silicon nitride)}
B. 二氧化硅
C. 光刻胶
D. 多晶硅

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