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硅晶片上之所以可以产生薄膜,出始于布满在晶片表面的许多气体分

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    化学反应(chemical reaction)、单晶硅(single crystal silicon)、多晶硅(polysilicon)、氮化硅(silicon nitride)、强迫性(obsessive-compulsive)、之所以(the reason that)

  • [单选题]硅晶片上之所以(the reason that)可以产生薄膜,出始于布满在晶片表面的许多气体分子或其它粒子,它们主要是通过()到达晶片表面的。

  • A. 粒子的扩散
    B. 化学反应
    C. 从气体源通过强迫性(obsessive-compulsive)的对流传送
    D. 被表面吸附

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  • 学习资料:
  • [多选题]以()等两层材料所组合而成的导电层便称为Polycide。
  • A. 单晶硅
    B. 多晶硅
    C. 硅化金属
    D. 二氧化硅
    E. 氮化硅

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