光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）

【名词&注释】

时间长(a long time)

[填空题]光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。

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[单选题]位错的形成原因是（）。

A. 位错就是由弹性形变造成的
B. 位错就是由重力造成的
C. 位错就是由范性形变造成的
D. 以上答案都不对

[单选题]在温度相同的情况下，制备相同厚度的氧化层，分别用干氧，湿氧和水汽氧化，哪个需要的时间最长？（）

A. A、干氧
B. B、湿氧
C. C、水汽氧化
D. D、不能确定哪个使用的时间长

[单选题]将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。

A. 接触
B. 接近式
C. 投影

[单选题]单相3线插座接线有严格规定（）

A. “左零”“右火”
B. “左火”“右零”

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