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X荧光分析基体的影响可分两大类,一类是()引起的,另一类是(

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    化学成分(chemical constituents)、定性分析(qualitative analysis)、检测器(detector)、谱线宽度(line width)、光电管、哈特曼光阑(hartmann diaphragm)、原子发射光谱(atomic emission spectrometry)

  • [填空题]X荧光分析基体的影响可分两大类,一类是()引起的,另一类是(),表面结构等造成的。

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  • 学习资料:
  • [单选题]在原子吸收分光光度计中所用的检测器是()
  • A. 吸光电池
    B. 光敏电池
    C. 光电管倍增管
    D. 光电管

  • [单选题]在原子发射光谱(atomic emission spectrometry)摄谱法定性分析时采用哈特曼光阑(hartmann diaphragm)是为了()。
  • A. 控制谱带高度
    B. 同时摄下三条铁光谱作波长参比
    C. 防止板移时谱线产生位移
    D. 控制谱线宽度

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