下列可作为磷扩散源的是（）。

【名词&注释】

光刻胶、电子束(electron beam)、红外线辐射(infrared radiation)、无损伤(no damage)、紫外光辐射(uv radiation)

[多选题]下列可作为磷扩散源的是（）。

A. 磷钙玻璃
B. 三氯氧磷
C. 三氯化磷
D. 磷烷
E. 掺磷二氧化硅乳胶源

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学习资料：

[多选题]光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。

A. 红外线辐射
B. X射线照射
C. 加热
D. 紫外光辐射^{(uv radiation)}
E. 电子束扫描

[单选题]当注入剂量增加到某个值时，损伤量不再增加，趋于饱和。开始饱和的注入剂量称为（）。

A. 临界剂量
B. 饱和剂量
C. 无损伤剂量
D. 零点剂量

[多选题]通常情况下，我们改变工艺条件使刻蚀进行中（）的刻蚀速率尽量低。

A. 光刻胶
B. 衬底
C. 表面硅层
D. 扩散区
E. 源漏区

[单选题]一般来说，我们用一定量的（）使阳树脂再生。

A. 硝酸
B. 硫酸
C. 盐酸
D. 磷酸

[多选题]静电释放带来的问题有哪些（）。

A. 金属电迁移
B. 金属尖刺现象
C. 芯片产生超过1A的峰值电流
D. 栅氧化层击穿
E. 吸引带电颗粒或极化并吸引中性颗粒到硅片表面

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