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()是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

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    真空镀膜(vacuum coating)、真空蒸发(vacuum evaporation)、原子数(atomicity)

  • [单选题]()是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

  • A. 溅射率
    B. 溅射系数
    C. 溅射效率
    D. 溅射比

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  • 学习资料:
  • [单选题]薄膜沉积的机构,依发生的顺序,可以分为这几个步骤。其中不包括()。
  • A. 形成晶核
    B. 晶粒自旋
    C. 晶粒凝结
    D. 缝道填补

  • [单选题]真空蒸发又被人们称为()。
  • A. A.真空沉积B.真空镀膜C.真空外延D.真空

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