半导体芯片制造工题库2022半导体芯片制造中级工题库模拟考试库211

1. [单选题]说明构成每个单元所需的基本门和基本单元的集成电路设计过程叫（）：

A. A、逻辑设计
B. B、物理设计
C. C、电路设计
D. D、系统设计

2. [单选题]腐蚀二氧化硅的水溶液一般是用（）

A. A、盐酸
B. B、硫酸
C. C、硝酸
D. D、氢氟酸^{(hydrofluoric acid)}

3. [单选题]离子注入层的杂质浓度^{(impurity concentration)}主要取决于离子注入的（）。

A. 能量
B. 剂量

4. [单选题]Ⅰ号液是（）过氧化氢清洗液.

A. 碱性
B. 酸性
C. 中性

5. [多选题]按蒸发源加热方法的不同，真空蒸发工艺可分为：（）蒸发、（）蒸发、离子束蒸发^{(ion beam evaporation)}等。

A. 电阻加热^{(resistance heating)}
B. 电子束
C. 蒸气原子

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