超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。

【名词&注释】

高灵敏度、循环泵(circulating pump)、热氧化(thermal oxidation)、有利于(beneficial to)、干式真空泵(dry vacuum pump)

[多选题]超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。

A. 高分辨率
B. 高灵敏度
C. 精密的套刻对准
D. 大尺寸
E. 低缺陷

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学习资料：

[单选题]dry vacuum pump的意思是（）。

A. 扩散泵
B. 谁循环泵
C. 干式真空泵^{(dry vacuum pump)}
D. 路兹泵

[单选题]采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是（）的。

A. 结晶形态
B. 非结晶形态
C. 可能是结晶形态的，也可能是非结晶形态的
D. 以上都不对

[单选题]采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是（）的。

A. 结晶形态
B. 非结晶形态
C. 可能是结晶形态的，也可能是非结晶形态的
D. 以上都不对

[单选题]降低靶的温度，有利于非晶层的形成，所以临界注入量随之（）。

A. 增大
B. 减小
C. 不变
D. 变为0

[单选题]一般来说，我们用一定量的（）使阳树脂再生。

A. 硝酸
B. 硫酸
C. 盐酸
D. 磷酸

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