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在集成电路制造工艺步骤中,光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到

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    集成电路制造工艺(ic fabrication process)

  • [判断题]在集成电路制造工艺步骤中,光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。

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