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表面钝化工艺是在半导体芯片表面复盖一层保护膜,使器件的表面与

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    半导体(semiconductor)、保护膜(protective film)、钝化工艺(passivation process)、时间长(a long time)

  • [判断题]表面钝化工艺是在半导体芯片表面复盖一层保护膜,使器件的表面与周围气氛隔离。()

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  • [单选题]位错的形成原因是()。
  • A. 位错就是由弹性形变造成的
    B. 位错就是由重力造成的
    C. 位错就是由范性形变造成的
    D. 以上答案都不对

  • [单选题]在温度相同的情况下,制备相同厚度的氧化层,分别用干氧,湿氧和水汽氧化,哪个需要的时间最长?()
  • A. A、干氧
    B. B、湿氧
    C. C、水汽氧化
    D. D、不能确定哪个使用的时间长(a long time)

  • [单选题]二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行()扩散。
  • A. 预
    B. 再
    C. 选择

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