SiHCl3还原法制备晶体硅，在生产过程中不需要控制（）。

【名词&注释】

分段线性化(piecewise linearization)、还原法(reduction)、开平方(extraction of square root)、晶体生长速度(crystal growth velocity)、模拟量I/O

[单选题]SiHCl3还原法制备晶体硅，在生产过程中不需要控制（）。

A. A.反应温度在280℃~300℃之间B.硅粉与HCl在进入反应炉前要充分干燥C.晶体生长速度D.合成时加入少量的催化剂，可降低温度

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[单选题]对模拟量I/O点进行组态时，如果选中“量程变换”、“开平方”和“分段线性化”三个开关，则PV参数值和采集数据之间的关系是（）。

A. A.首先将采集数据进行量程变换，然后将量程变换的结果进行开平方，再将开平方的结果进行分段线性化，将分段线性化的结果作为PV参数的值。B.首先将采集数据进行开平方，然后将开平方的结果进行量程变换，再将量程变换的结果进行分段线性化，将分段线性化的结果作为PV参数的值。C.首先将采集数据进行开平方，然后将开平方的结果进行分段线性化，再将分段线性化的结果进行量程变换，将量程变换的结果作为PV参数的值。D.首先将采集数据进行量程变换，然后将量程变换的结果进行分段线性化，再将分段线性化的结果进行开平方，将开平方的结果作为PV参数的值。

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