必典考网

离子注入的主要气体源中,剧毒的有()。

  • 下载次数:
  • 支持语言:
  • 650
  • 中文简体
  • 文件类型:
  • 支持平台:
  • pdf文档
  • PC/手机
  • 【名词&注释】

    扩散系数(diffusion coefficient)、离子注入(ion implantation)、砷化氢(arsine)

  • [多选题]离子注入的主要气体源中,剧毒的有()。

  • A. 砷化氢
    B. 二硼化氢
    C. 四氟化硅
    D. 三氟化磷
    E. 五氟化磷

  • 查看答案&解析 查看所有试题
  • 学习资料:
  • [单选题]表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度,习惯上常用()。
  • A. 分凝度
    B. 固溶度
    C. 分凝系数
    D. 扩散系数

  • [多选题]下列哪些因素会影响临界注入量的大小:()。
  • A. 注入离子的质量
    B. 靶的种类
    C. 注入温度
    D. 注入速度
    E. 注入剂量

  • 本文链接:https://www.51bdks.net/show/rxvnqj.html
  • 推荐阅读

    必典考试
    @2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号