单晶硅电池的制造工艺主要流程为（）

【名词&注释】

西门子S7-200(siemens s 7-200)、减反射膜(antireflection film)、单晶硅电池

[单选题]单晶硅电池的制造工艺主要流程为（）

A. 表面处理→制作绒面→扩散制结→制作电极→制作减反射膜
B. 表面处理→扩散制结→制作绒面→制作减反射膜→制作电极
C. 表面处理→制作绒面→扩散制结→制作减反射膜→制作电极
D. 表面处理→制作减反射膜→制作绒面→扩散制结→制作电极

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[单选题]西门子S7-200系列中CPU226最多可带（）个扩展模块。

A. A.1B.2C.7D.13

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