清洁处理主要使用的是（）。

【名词&注释】

光刻胶、化学反应(chemical reaction)、有机溶剂(organic solvent)、反应离子刻蚀、投影射程(projected range)、等离子体刻蚀(plasma etching)、感光剂(photosensitizer)、英文名称(english terms)

[多选题]清洁处理主要使用的是（）。

A. 水
B. 有机溶剂
C. 碱
D. 酸
E. 盐酸

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[多选题]光刻胶主要由（）等不同材料混合而成的。

A. 树脂
B. 感光剂^{(photosensitizer)}
C. HMDS
D. 溶剂
E. PMMA

[单选题]射程在垂直入射方向的平面内的投影长度称之为（）。

A. 投影射程
B. 射程纵向分量
C. 射程横向分量
D. 有效射程

[单选题]铜与氯形成的化合物挥发能力不好，因而铜的刻蚀无法以化学反应来进行，而必须施以（）。

A. 等离子体刻蚀^{(plasma etching)}
B. 反应离子刻蚀
C. 湿法刻蚀
D. 溅射刻蚀

[单选题]化学气相沉积的英文名称^{(english terms)}的缩写为（）。

A. LVD
B. PED
C. CVD
D. PVD

[单选题]由静电释放产生的电流泄放最大电压可以达（）。

A. 几伏
B. 几十伏
C. 几百伏
D. 几万伏

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