企业的战略一般由四个要素组成，即经营范围、资源配置、竞争优势

【名词&注释】

光刻胶、资源配置(resource allocation)、离子注入(ion implantation)、对比度(contrast)、经营范围(business scope)、开发工具(development tool)、紫外光吸收(ultraviolet absorption)、显影液(developer)、薄膜淀积(thin film deposition)

[单选题]企业的战略一般由四个要素组成，即经营范围、资源配置、竞争优势以及协同合作，其中协同合作是指企业通过共同的努力达到（）。

A. 分力之和大于简单相加的结果
B. 分力之和等于简单相加
C. 共享开发工具、共享信息
D. 共同分担着开发失败的风险

查看答案&解析 查看所有试题

学习资料：

[单选题]当二氧化硅膜很薄时，膜厚与时间（）。

A. t2成正比
B. t2成反比
C. t成正比
D. t成反比

[多选题]关于正胶和负胶的特点，下列说法正确的是（）。

A. 正胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率高于负胶
B. 正胶的感光区域在显影时不溶解，负胶的感光区域在显影时溶解
C. 负胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率不会降低
D. 正胶的感光区域在显影时溶解，负胶的感光区域在显影时不溶解
E. 负胶在显影时会发生膨胀，导致了分辨率的降低

[单选题]在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。

A. DQN
B. CA
C. ARC
D. PMMA

[多选题]在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。

A. CA光刻胶对深紫外光吸收^{(ultraviolet absorption)}小
B. CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化
C. CA光刻胶在显影液^(developer)中的可溶性强
D. 有较高的光敏度
E. 有较高的对比度

[多选题]通常情况下，我们改变工艺条件使刻蚀进行中（）的刻蚀速率尽量低。

A. 光刻胶
B. 衬底
C. 表面硅层
D. 扩散区
E. 源漏区

[单选题]（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积^{(thin film deposition)}技术。

A. 蒸镀
B. 离子注入
C. 溅射
D. 沉积

[单选题]ESD产生（）种不同的静电总类。

A. 1
B. 4
C. 3
D. 2

本文链接：https://www.51bdks.net/show/re837.html