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最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。

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    正性光刻胶(positive photoresist)、半导体光刻(semiconductor lithography)

  • [判断题]最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。

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