光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。

【名词&注释】

扩散系数(diffusion coefficient)、离子注入(ion implantation)、二次电子(secondary electron)、表面浓度(surface concentration)、准确性。

[单选题]光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。

A. 150－200℃
B. 200℃左右
C. 250℃左右
D. 300℃左右

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学习资料：

[单选题]一般分析扩散系数，考虑两种条件，即恒定表面浓度条件和（）。

A. 恒定总掺杂剂量
B. 不恒定总掺杂剂量
C. 恒定杂志浓度
D. 不恒定杂志浓度

[单选题]在靶片前方设一抑制栅，作用是将（）抑制回去，从而保证测量的准确性。

A. 二次电子
B. 二次中子
C. 二次质子
D. 无序离子

[单选题]用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫（）。

A. 蒸镀
B. 离子注入
C. 溅射
D. 沉积

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