对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。

【名词&注释】

资源配置(resource allocation)、离子注入(ion implantation)、经营范围(business scope)、开发工具(development tool)、离子源(ion source)、离子束(ion beam)、分析器(analyzer)、激光退火(laser annealing)、干氧氧化(dry oxidation)、湿氧氧化(wet oxidized)

[单选题]对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。

A. 离子注入
B. 溅射
C. 淀积
D. 扩散

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[单选题]企业的战略一般由四个要素组成，即经营范围、资源配置、竞争优势以及协同合作，其中协同合作是指企业通过共同的努力达到（）。

A. 分力之和大于简单相加的结果
B. 分力之和等于简单相加
C. 共享开发工具、共享信息
D. 共同分担着开发失败的风险

[单选题]下列几种氧化方法相比，哪种方法制得的二氧化硅薄膜的电阻率会高些（）。

A. 干氧氧化^{(dry oxidation)}
B. 湿氧氧化^{(wet oxidized)}
C. 水汽氧化
D. 与氧化方法无关

[单选题]目前，最广泛使用的退火方式是（）。

A. 热退火
B. 激光退火^{(laser annealing)}
C. 电子束退火
D. 离子束退火

[单选题]离子注入装置的主要部件有（）、分析器^(analyzer)、加速聚焦系统等。

A. 中子源
B. 离子源
C. 电子源
D. 质子源

[单选题]买来的新树脂往往是Na型或Cl型，新树脂使用前必须分别用酸（阳树脂），碱（阴树脂）浸泡约（）个小时，把Na型或Cl型转换成H型或OH型。

A. 3
B. 4
C. 5
D. 6

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