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集成电路制造工艺员（三级）题库2022往年考试试卷(7J)

来源： 必典考网    发布：2022-04-17     [手机版]    
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必典考网发布集成电路制造工艺员（三级）题库2022往年考试试卷(7J)，更多集成电路制造工艺员（三级）题库的考试试题请访问必典考网集成电路制造工艺员题库频道。

1. [单选题]为了避免（）在经过氯化物等离子体刻蚀之后的残留物使其发生腐蚀，必须在刻蚀完毕之后再增加一道工序来除去这些表面残留物(surface residue)。

A. 多晶硅
B. 单晶硅
C. 铝硅铜合金
D. 铜


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