制作冠外附着体时，阳性附着体底部与牙槽嵴顶黏膜之间间隙应有（

【名词&注释】

磷酸盐(phosphate)、贵金属、硅酸盐、无牙颌(edentulous jaw)、不均匀(uneven)、全口义齿修复、食物嵌塞(food impaction)、牙槽嵴顶(alveolar ridge crest)

[单选题]制作冠外附着体时，阳性附着体底部与牙槽嵴顶^{(alveolar ridge crest)}黏膜之间间隙应有（）

A. 1mm
B. 1.5mm
C. 2mm
D. 2.5mm
E. 3mm

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学习资料：

[单选题]铸造后包埋料包埋的贵金属铸件不用喷砂可去除包埋料的是（）

A. 磷酸盐包埋料
B. 石膏系包埋料
C. 硅酸盐包埋料
D. 磷酸盐包埋料和硅酸盐包埋料均可
E. 石膏系包埋料和磷酸盐包埋料均可

[单选题]RPI卡环采用近中牙合支托的主要目的是（）

A. 防止基托下沉
B. 减少牙槽嵴受力
C. 减少基牙所受扭力
D. 增强义齿稳定
E. 防止食物嵌塞^{(food impaction)}

[单选题]患者，72岁，无牙颌，全口义齿修复10年，上颌义齿尚可，下颌义齿稳定性差，本次就诊要求"能戴稳假牙，能吃东西"。临床检查发现下牙槽嵴低平，旧义齿固位不良，人工牙面不均匀磨耗，面下1/3低。

A. D

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