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在热扩散工艺中的预淀积步骤中,硼在900~1050℃的条件下,扩散时

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    热扩散(thermal diffusion)、反应溅射、加速器(accelerator)、无损伤(no damage)、玻璃管(glass tube)、直流溅射(dc sputtering)

  • [单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中,硼在900~1050℃的条件下,扩散时间大约()为宜。

  • A. 4~6h
    B. 50min~2h
    C. 10~40min
    D. 5~10min

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  • 学习资料:
  • [单选题]当注入剂量增加到某个值时,损伤量不再增加,趋于饱和。开始饱和的注入剂量称为()。
  • A. 临界剂量
    B. 饱和剂量
    C. 无损伤剂量
    D. 零点剂量

  • [多选题]溅射的方法非常多其中包括()。
  • A. A.直流溅射(dc sputtering)B.交流溅射C.反应溅射D.二级溅射E.三级溅射

  • [多选题]直流二极管辉光放电系统是由()构成。
  • A. 抽真空的玻璃管(glass tube)
    B. 抽真空后再充入某种低压气体的玻璃管(glass tube)
    C. 两个电极
    D. 加速器
    E. 增益管

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