2022集成电路制造工艺员（三级）题库冲刺密卷答案公布(06.27)

1. [单选题]在靶片前方设一抑制栅，作用是将（）抑制回去，从而保证测量的准确性。

A. 二次电子^{(secondary electron)}
B. 二次中子
C. 二次质子
D. 无序离子

2. [单选题]单晶硅刻蚀一般采用（）做掩蔽层，以氟化氢为主要的刻蚀剂，氧气为侧壁钝化作用的媒介物^(vehicle)。

A. 氮化硅
B. 二氧化硅
C. 光刻胶
D. 多晶硅

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