半导体芯片制造工题库2022半导体芯片制造中级工题库备考模拟试题313

1. [单选题]腐蚀二氧化硅的水溶液一般是用（）

A. A、盐酸
B. B、硫酸
C. C、硝酸
D. D、氢氟酸

2. [单选题]位错的形成原因是（）。

A. 位错就是由弹性形变造成的
B. 位错就是由重力造成的
C. 位错就是由范性形变造成的
D. 以上答案都不对

3. [单选题]离子注入层的杂质浓度^{(impurity concentration)}主要取决于离子注入的（）。

A. 能量
B. 剂量

4. [单选题]光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）

A. 刻制图形
B. 绘制图形
C. 制作图形

5. [单选题]人们规定：（）电压为安全电压^{(safety voltage)}.

A. 36伏以下
B. 50伏以下
C. 24伏以下

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