沾污是指半导体制造过程中引入半导体硅片的任何危害微芯片（）的

【名词&注释】

物理性能(physical properties)、半导体(semiconductor)、加速器(accelerator)、成品率(yield)、离子源(ion source)、纯净度(purity)、分析器(analyzer)、表面平整度(surface planeness)、高密度等离子体(high density plasma)

[多选题]沾污是指半导体制造过程中引入半导体硅片的任何危害微芯片（）的不希望有的物质。

A. 功能
B. 成品率
C. 物理性能
D. 电学性能
E. 外观

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学习资料：

[单选题]离子源的基本结构是由产生高密度等离子体^{(high density plasma)}的（）和引出部分组成。

A. 电极
B. 分析器^(analyzer)
C. 加速器
D. 腔体

[多选题]在半导体工艺中，淀积的薄膜层应满足的参数包含有（）。

A. 均匀性
B. 表面平整度^{(surface planeness)}
C. 自由应力
D. 纯净度
E. 电容

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