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目前,低氰、微氰电镀已经逐步取代中氰、高氰电镀。

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    工艺流程(technological process)、孔金属化(hole metallization)

  • [判断题]目前,低氰、微氰电镀已经逐步取代中氰、高氰电镀。

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  • 学习资料:
  • [单选题]在图形电镀制作双面孔化板的工艺流程中,孔金属化后的下一个工序应该是()。
  • A. 图形转移
    B. 镀铜
    C. 镀铅锡
    D. 腐蚀

  • [单选题]电镀铜所采用的阳极为磷铜球,其含磷量为()。
  • A. 0.035~0.07%
    B. 0.35~0.7%
    C. 0.035~0.7%
    D. 0.6~0.9%

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