必典考网

()的方法有利于减少热预算。

  • 下载次数:
  • 支持语言:
  • 959
  • 中文简体
  • 文件类型:
  • 支持平台:
  • pdf文档
  • PC/手机
  • 【名词&注释】

    中子源(neutron source)、离子注入(ion implantation)、多晶硅(polysilicon)、砷化氢(arsine)、离子源(ion source)、有利于(beneficial to)、分析器(analyzer)、高压氧化、湿氧氧化(wet oxidized)

  • [多选题]()的方法有利于减少热预算。

  • A. 高压氧化
    B. 湿氧氧化(wet oxidized)
    C. 掺氯氧化
    D. 氢氧合成氧化
    E. 等离子增强氧化

  • 查看答案&解析 查看所有试题
  • 学习资料:
  • [单选题]离子注入装置的主要部件有()、分析器(analyzer)、加速聚焦系统等。
  • A. 中子源
    B. 离子源
    C. 电子源
    D. 质子源

  • [多选题]离子注入的主要气体源中,剧毒的有()。
  • A. 砷化氢
    B. 二硼化氢
    C. 四氟化硅
    D. 三氟化磷
    E. 五氟化磷

  • [单选题]请在下列选项中选出多晶硅化金属的英文简称:()。
  • A. A.OxideB.NitrideC.SilicideD.Polycide

  • 本文链接:https://www.51bdks.net/show/ngydl7.html
  • 推荐阅读

    必典考试
    @2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号