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高密度等离子体刻蚀机是为亚0.25微米图形尺寸而开发的最重要的干

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    高密度(high density)、干法刻蚀(dry etching)、等离子体刻蚀(plasma etching)

  • [判断题]高密度等离子体刻蚀机是为亚0.25微米图形尺寸而开发的最重要的干法刻蚀系统。

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