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下列方程式中属于二氧化硅刻蚀工艺的是()。

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    方程式、晶闸管(thyristor)、单晶体(single crystal)、非晶体(noncrystal)、有源逆变器(active inverter)、多晶体(polycrystal)、输出高电平(output level)

  • [单选题]下列方程式中属于二氧化硅刻蚀工艺的是()。

  • A. A.4HF+Si=SiF4+2H2↑B.CF4+SiO2——→SiF4+CO2↑C.CF4+SiO2+O2——→SiF4+CO2↑D.SiO2+4HF——→SiF4+2H2O

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  • [单选题]用于太阳能电池半导体的材料三种形式中晶粒之间存在边界的是()。
  • A. A.多晶体(polycrystal)B.单晶体C.非晶体D.以上都是

  • [单选题]一个太阳能电池单体只能产生约0.5V的电压,一般一个太阳能电池组件上,太阳能电池单体的标准数量是()片。
  • A. A.12B.24C.30D.36

  • [单选题]晶闸管低同步调速系统工作时,晶闸管有源逆变器的触发超前角β一般为()。
  • A. A.30~60度B.30~90度C.60~90度D.30~120度

  • [单选题]TTL集成电路的输出高电平(output level)典型电压值为()。
  • A. A.0B.0.3VC.3.6VD.5V

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