集成电路制造工艺员题库2022集成电路制造工艺员（三级）题库免费每日一练下载(08月29日)

1. [多选题]二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。

A. 玻璃器皿
B. 高温器材
C. 人体沾污
D. 化学试剂
E. 去离子水

2. [多选题]解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。

A. 加强工艺操作
B. 加强人体和环境卫生
C. 使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备
D. 采用HCl氧化工艺
E. 硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹

3. [单选题]在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。

A. 化学增强
B. 化学减弱
C. 厚度增加
D. 厚度减少

4. [单选题]静电偏转电极和静电扫描器都是（）电容器。

A. 片状
B. 针尖状
C. 圆筒状
D. 平行板

5. [多选题]按加热源的不同，可以分成（）几种不同类型的蒸发。

A. 真空蒸发
B. 离子束蒸发^{(ion beam evaporation)}
C. 电子束蒸发
D. 粒子束^{(particle beams)}蒸发
E. 常压蒸发

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