在晶片制造中，有两种方法可以向硅片中引入杂质元素，即热扩散和

【名词&注释】

热扩散(thermal diffusion)、离子注入。

[判断题]在晶片制造中，有两种方法可以向硅片中引入杂质元素，即热扩散和离子注入。

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