扩散工艺现在广泛应用于制作（）。

【名词&注释】

热扩散(thermal diffusion)、工艺流程(technological process)、极大值(maximum)、极小值(minimum)、扩散工艺(diffusion process)、平衡位置(equilibrium position)

[单选题]扩散工艺^{(diffusion process)}现在广泛应用于制作（）。

A. 晶振
B. 电容
C. 电感
D. PN结

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学习资料：

[单选题]奉献社会的实质是（）。

A. 获得社会的好评
B. 尽社会义务
C. 不要回报的付出
D. 为人民服务

[单选题]在热扩散工艺^{(diffusion process)}中的预淀积步骤中，硼在950～1100℃的条件下，扩散时间大约（）为宜。

A. 4～6h
B. 50min～2h
C. 10～40min
D. 5～10min

[单选题]光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。

A. 涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶
B. 涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶
C. 涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶
D. 前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶

[多选题]关于正胶和负胶的特点，下列说法正确的是（）。

A. 正胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率高于负胶
B. 正胶的感光区域在显影时不溶解，负胶的感光区域在显影时溶解
C. 负胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率不会降低
D. 正胶的感光区域在显影时溶解，负胶的感光区域在显影时不溶解
E. 负胶在显影时会发生膨胀，导致了分辨率的降低

[单选题]晶体中，每个原子在晶格中有一定的平衡位置^{(equilibrium position)}，原子在此位置时其势能为（）。

A. 极大值
B. 极小值
C. 既不极大也不极小
D. 小于动能

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