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a-Si:H以及合金材料,用()、热CVD、光CVD等气相生长法可以制

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    等离子(plasma)、合金材料(alloy material)

  • [填空题]a-Si:H以及合金材料,用()、热CVD、光CVD等气相生长法可以制造薄膜。

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  • [多选题]常用的反并联可逆电路有:()。
  • A. A.逻辑无环流B.逻辑有环流C.有环流D.错位无环流

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