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干氧氧化法有一些优点,但同时它的缺点有()。

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    二氧化硅薄膜、干氧氧化(dry oxidation)、速度慢(slow speed)

  • [单选题]干氧氧化法有一些优点,但同时它的缺点有()。

  • A. 生长出的二氧化硅中引入很多可动离子
    B. 氧化的速度慢
    C. 生长的二氧化硅缺陷多
    D. 生长的二氧化硅薄膜钝化效果差

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  • [多选题]哪种方法可以增加缺陷的积累率而降低临界注入量:()。
  • A. 低温注入
    B. 常温注入
    C. 高温注入
    D. 分子注入
    E. 双注入

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