He，OH，Na等元素在900℃下，在二氧化硅中的扩散率大于10－13cm2/

【名词&注释】

二氧化硅

[单选题]He，OH，Na等元素在900℃下，在二氧化硅中的扩散率大于10－13cm2/s，这些元素称为（）。

A. 活跃杂质
B. 快速扩散杂质
C. 有害杂质
D. 扩散杂质

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学习资料：

[单选题]薄膜沉积的机构，依发生的顺序，可以分为这几个步骤。其中不包括（）。

A. 形成晶核
B. 晶粒自旋
C. 晶粒凝结
D. 缝道填补

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