下列口腔材料的应用中应避免材料的流电性的是（）

【名词&注释】

细胞因子(cytokine)、硅橡胶印模材料、咀嚼运动(chewing movement)、后退接触位(retruded contact position)、琼脂印模材料(agar impression material)、藻酸盐印模材料(alginate impression material)、非特异性免疫系统(non-specific immune system)、牙尖交错位、复合树脂充填(composite filling)、牙尖高度(cusp height)

[单选题]下列口腔材料的应用中应避免材料的流电性的是（）

A. 复合树脂充填^{(composite filling)}材料
B. 粘结材料
C. 烤瓷材料
D. 金属修复材料
E. 热凝基托材料

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[单选题]以下印模材料精确度最高的是（）

A. 藻酸盐印模材料
B. 硅橡胶印模材料
C. 琼脂印模材料
D. 聚硫橡胶印模材料
E. 聚醚橡胶印模材料

[单选题]分布于颊侧的神经是（）

A. 上牙槽中神经
B. 上牙槽前神经
C. 颧神经
D. 腭中神经
E. 鼻腭神经

[单选题]咀嚼运动中的三种生物力是（）

A. ['咀嚼肌力、咀嚼力、最大力
B. 咀嚼力、咀嚼压力、力
C. 力、咀嚼力、最大力
D. 最大咀嚼力、咀嚼压力、力
E. 肌力、力、咀嚼力

[单选题]磨耗的生理意义不包括（）

A. ['有利于平衡的建立
B. 降低牙尖高度^{(cusp height)}
C. 协调临床冠根比例
D. 形成反横曲线
E. 邻面持续磨耗，防止前牙拥挤

[单选题]三种可重复的基本颌位是（）

A. 牙尖交错，侧方接触位，息止颌位
B. 牙尖交错位，后退接触位，姿势位
C. 牙尖交错位，前伸接触位，息止颌位
D. 正中位，前伸位，侧方位
E. 姿势位，牙位，肌位

[单选题]口腔非特异性免疫系统^{(non-specific immune system)}不包括（）

A. 口腔黏膜
B. 唾液、龈沟液
C. 免疫活性细胞
D. 细胞、细胞因子及补体
E. 口腔正常菌丛

[单选题]面部发育异常出现于（）

A. 胚胎第3～4周
B. 胚胎第6～7周
C. 胚胎第7～8周
D. 胚胎第8～9周
E. 胚胎第4～5个月

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