必典考网

位错的形成原因是()。

  • 下载次数:
  • 支持语言:
  • 1344
  • 中文简体
  • 文件类型:
  • 支持平台:
  • pdf文档
  • PC/手机
  • 【名词&注释】

    必典考网发布"位错的形成原因是()。"考试试题下载及答案,更多半导体芯片制造中级工题库的考试试题下载及答案考试题库请访问必典考网半导体芯片制造工题库频道。

  • [单选题]位错的形成原因是()。

  • A. 位错就是由弹性形变造成的
    B. 位错就是由重力造成的
    C. 位错就是由范性形变造成的
    D. 以上答案都不对

  • 查看答案&解析 查看所有试题
  • 学习资料:
  • [单选题]将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触,再用紫外光照射来进行曝光的方法,称为()曝光。
  • A. 接触
    B. 接近式
    C. 投影

  • 本文链接:https://www.51bdks.net/show/evn80.html
  • 推荐阅读

    必典考试
    @2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号