由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀

【名词&注释】

光刻胶、化学反应(chemical reaction)、循环泵(circulating pump)、各向同性(isotropic)、干法刻蚀(dry etching)、干式真空泵(dry vacuum pump)、强迫性(obsessive-compulsive)、英文名称(english terms)

[单选题]由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的，所以其（）就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。

A. 刻蚀速率
B. 选择性
C. 各向同性
D. 各向异性

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学习资料：

[单选题]dry vacuum pump的意思是（）。

A. 扩散泵
B. 谁循环泵
C. 干式真空泵^{(dry vacuum pump)}
D. 路兹泵

[单选题]如果固体中的原子排列情况是紊乱的，就称之为（）。

A. 单晶靶
B. 超晶靶
C. 多晶靶
D. 非晶靶

[单选题]化学气相沉积的英文名称^{(english terms)}的缩写为（）。

A. LVD
B. PED
C. CVD
D. PVD

[多选题]晶片表面上的粒子是通过（）到达晶片的表面。

A. 粒子扩散
B. 从气体源通过强迫性^{(obsessive-compulsive)}的对流传送
C. 化学反应
D. 被表面吸附
E. 静电吸引

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