在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）

【名词&注释】

水蒸气(steam)、混合物(mixture)、工艺技术(technology)、离子注入(ion implantation)、加速器(accelerator)、惰性气体(inert gas)、表面平整度(surface planeness)、玻璃管(glass tube)、工作中、表面浓度(surface concentration)

[单选题]在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。

A. 刻蚀
B. 氧化
C. 淀积
D. 光刻

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[单选题]恒定表面浓度^{(surface concentration)}的条件下，在整个扩散期间，（）保持恒定表面浓度^{(surface concentration)}。

A. 源蒸气
B. 杂质和惰性气体混合物
C. 水蒸气和杂志混合物
D. 杂质、惰性气体、水蒸气混合物

[单选题]硅烷的分子式是（）。

A. SiF4
B. SiH4
C. CH4
D. SiC

[单选题]在实际工作中，常常需要知道离子注入层内损伤量按（）的分布情况。

A. 长度
B. 深度
C. 宽度
D. 表面平整度^{(surface planeness)}

[多选题]直流二极管辉光放电系统是由（）构成。

A. 抽真空的玻璃管^{(glass tube)}
B. 抽真空后再充入某种低压气体的玻璃管^{(glass tube)}
C. 两个电极
D. 加速器
E. 增益管

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