一般X射线大致具有的性质（），荧光作用，电离作用，穿透能力强

【名词&注释】

折射率(refractive index)、多晶硅(polysilicon)、第一次(the first time)、单晶硅薄膜(single crystal silicon film)、电离作用(ionization)

[填空题]一般X射线大致具有的性质（），荧光作用，电离作用^(ionization)，穿透能力强，X射线的折射率近似等于1，衍射作用。

查看答案&解析 查看所有试题

学习资料：

[单选题]悬浮区熔法检验多晶硅中基磷含量时，采用快速区熔法的工艺时，第一次区熔时，第一区熔区停留挥发时间（）左右。

A. 3ｍｉｎ
B. 5ｍｉｎ
C. 7ｍｉｎ
D. 10ｍｉｎ

[单选题]制备单晶硅薄膜方面的主要工艺方法是（）.

A. 汽-固
B. 液-固
C. 固-固
D. 汽-液

[单选题]纯电感电路中的电流与电压的相位关系是（）。

A. A、电压超前π/2
B. B、电压滞后π/2
C. C、同相
D. D、反相

本文链接：https://www.51bdks.net/show/ej980.html