必典考网

集成电路制造工艺员题库2022集成电路制造工艺员（三级）题库每日一练(04月17日)

来源： 必典考网    发布：2022-04-17     [手机版]    
  • 下载次数：
  • 支持语言：
  • 269次
  • 中文简体
  • 文件类型：
  • 支持平台：
  • pdf文档
  • PC/手机

【导读】

必典考网发布集成电路制造工艺员题库2022集成电路制造工艺员（三级）题库每日一练(04月17日)，更多集成电路制造工艺员（三级）题库的每日一练请访问必典考网集成电路制造工艺员题库频道。

1. [多选题]铜与铝相比较，其性质有（）。

A. 铜的电阻率比铝小
B. 铝的熔点较高
C. 铝的抗电迁移能力较弱
D. 铜与硅的接触电阻较小
E. 铜可以在低温下淀积


  • 查看答案&解析 查看所有试题

    • 本文链接：https://www.51bdks.net/show/eeel7q.html

    集成电路制造工艺员（三级）题库题库下载排行
    必典考试
    集成电路制造工艺员（三级）题库题库最新资料
    @2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号