下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。

【名词&注释】

去离子水(deionized water)、化学试剂(chemical reagent)、钠离子(sodium ion)、等离子(plasma)、有利于(beneficial to)、高压氧化、玻璃器皿(glassware)、湿氧氧化(wet oxidized)、去光刻胶

[单选题]下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。

A. 烘烤的目的是除去光刻胶中的水分
B. 烘烤可以减轻曝光中的驻波效应
C. 烘烤的温度一般在300℃左右
D. 烘烤的时间越长越好

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学习资料：

[多选题]（）的方法有利于减少热预算。

A. 高压氧化
B. 湿氧氧化^{(wet oxidized)}
C. 掺氯氧化
D. 氢氧合成氧化
E. 等离子增强氧化

[多选题]二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。

A. 玻璃器皿^(glassware)
B. 高温器材
C. 人体沾污
D. 化学试剂
E. 去离子水

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