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一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开

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    生物膜(biofilm)、大面积(large area)、牙菌斑(dental plaque)、呼吸性碱中毒(respiratory alkalosis)、自凝树脂(self-solidification resin)

  • [单选题]一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()。

  • A. 不做处理,让患者把义齿戴走
    B. 腭杆组织面加自凝树脂(self-solidification resin)重衬
    C. 腭杆组织面缓冲
    D. 取下腭杆
    E. 取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

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  • 学习资料:
  • [单选题]呼吸性碱中毒见于()。
  • A. 颅脑损伤
    B. 哮喘
    C. 高热
    D. 严重低血钾
    E. 大量丢失胃液

  • [单选题]牙菌斑是()。
  • A. 仅存在于牙齿表面硬而矿化的微生物膜
    B. 仅存在于牙齿表面软而未矿化的微生物膜
    C. 存在于口内硬组织表面硬而矿化的微生物膜
    D. 存在于口内硬组织表面软而未矿化的微生物膜
    E. 以上都不是

  • [单选题]适合做丝圈保持器的情况是()。
  • A. 左上中切牙全脱位
    B. D|D早失,E|E无龋
    C. CD缺失,E大面积充填体
    D. E缺失,6未盟出
    E. DE|DE早失

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