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影响等离子体蚀刻特性好坏的因素包括以下几个方面()。

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    重金属(heavy metal)、光刻胶、高浓度(high-concentration)、抛光液(polishing slurry)、钝化工艺(passivation process)、极低浓度(extremely low concentration)

  • [多选题]影响等离子体蚀刻特性好坏的因素包括以下几个方面()。

  • A. 等离子体蚀刻系统的形态
    B. 等离子体蚀刻的参数
    C. 光刻胶
    D. 待蚀刻薄膜的淀积参数条件

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  • 学习资料:
  • [单选题]抛光液溶液的酸碱性一般为()。
  • A. 酸性
    B. 中性
    C. 碱性
    D. 近中性或碱性

  • [多选题]调整清洁的目的()。
  • A. 清洁孔内壁
    B. 整孔
    C. 去毛刺
    D. 去钻污

  • [单选题]从理论上说,测量电极电位是把待测的电极电位与()的电极电位加以比较得出的。
  • A. 标准铂电极
    B. 标准铅电极
    C. 标准氢电极
    D. 标准电极

  • [单选题]彩色钝化膜的处理方法很多,有低浓度、中等浓度和高浓度的铬酸盐处理液。但是,考虑到环境保护,减少重金属铬污染,()钝化工艺(passivation process)被广泛地使用。
  • A. 低浓度铬酸盐
    B. 中等浓度铬酸盐
    C. 高浓度铬酸盐
    D. 以上三种

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