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二氧化硅薄膜厚度的测量方法有()。

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    扩散系数(diffusion coefficient)、单晶硅(single crystal silicon)、适用范围(scope of application)、测量方法(measurement method)、比色法(colorimetry)、多晶硅(polysilicon)、氮化硅(silicon nitride)、表面浓度(surface concentration)、偏振光法(polarized light method)

  • [多选题]二氧化硅薄膜厚度的测量方法有()。

  • A. 比色法
    B. 双光干涉法
    C. 椭圆偏振光法(polarized light method)
    D. 腐蚀法
    E. 电容-电压法

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  • 学习资料:
  • [单选题]一般分析扩散系数,考虑两种条件,即恒定表面浓度(surface concentration)条件和()。
  • A. 恒定总掺杂剂量
    B. 不恒定总掺杂剂量
    C. 恒定杂志浓度
    D. 不恒定杂志浓度

  • [多选题]下列组合中哪一种基本上用于刻蚀前者的干刻蚀法大都可以用来刻蚀后者()。
  • A. 二氧化硅氮化硅(silicon nitride)
    B. 多晶硅硅化金属
    C. 单晶硅多晶硅
    D. 铝铜
    E. 铝硅

  • [单选题]电气测量仪表中,整流式对电流的种类与频率的适用范围是()。
  • A. 直流
    B. 工频及较高频率的交流
    C. 直流及工频交流
    D. 直流及工频与较高频率的交流

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