电化学工程题库2022模拟考试题免费下载106

1. [多选题]电化学抛光液^{(chemical polishing solution)}的主要成分在下列选项中有（）。

A. 磷酸
B. 硫酸
C. 铬酸
D. 甘油

2. [单选题]鼓泡式蚀刻和浸泡式蚀刻的不同之处在于（）。

A. 鼓泡式蚀刻液的酸性更强
B. 鼓泡式蚀刻通入空气
C. 鼓泡式蚀刻液的酸性更强
D. 鼓泡式蚀刻通入氧气

3. [多选题]在碱性氯化铜^{(copper chloride)}蚀刻中，造成蚀刻过度的原因可能有（）。

A. 传送速度太慢
B. pH值过高
C. 蚀刻液比重偏低
D. 蚀刻液温度不足

4. [多选题]干法蚀刻通常指利用辉光放电方式，产生等离子体来进行图案转移的蚀刻技术。其中等离子体含有（）。

A. 离子、电子
B. 中性原子
C. 分子
D. 自由基

5. [多选题]霍尔槽试验是分析测定镀液工艺性能的一种方法，主要可以进行（）。

A. 确定电流密度
B. 测定镀液成分
C. 分析镀液故障
D. 测定镀液整平性能

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