2022半导体芯片制造中级工题库免费每日一练下载(06月05日)

1. [单选题]位错的形成原因是（）。

A. 位错就是由弹性形变造成的
B. 位错就是由重力造成的
C. 位错就是由范性形变造成的
D. 以上答案都不对

2. [单选题]二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行（）扩散。

A. 预
B. 再
C. 选择

3. [单选题]介质隔离^{(dielectric isolation)}是以绝缘性能良好的电介质作为“隔离墙”来实现电路中各元器件间彼此电绝缘^{(electrical insulation)}的一种隔离方法。常用的电介质是（）层。

A. 多晶硅
B. 氮化硅
C. 二氧化硅

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